A Canon, amely főként fényképezőgépei és optikai technológiája miatt ismert, nemrégiben belépett a lapka-gyártók piacára. Azonnal a 5 nanométeres litográfiai eljárást alkalmazza, és nem használ amerikai technológiát, ami azt jelenti, hogy potenciális partnerként szolgálhatna a Huawei számára a jövőben.
Ez a japán márka, amelyet inkább nyomtatói és fényképezőgépei miatt ismernek, nemrég bemutatta a nano-litográfiai nyomtatási rendszerét. Versenybe szállt az ASML holland céggel, amely korlátozásokat vezetett be a kínaiak számára. Jelenleg az ASML vezeti az EUV litográfiai piacot. A Canon állítása szerint berendezéseik a jövőben akár 2 nanométeres lapkák gyártására is képesek lesznek.
Az ASML által használt EUV technológia létfontosságú, mivel segít a 5 nanométeres vagy annál kisebb félvezetők gyártásában. Ez a szám azt mutatja meg, mennyi “technikát” lehet egy lapkára sűríteni. Minél kisebb ez a szám, annál több funkcióval rendelkezik a lapka és nő az ereje is. A litográfiai gépek “nyomtatják” a lapka dizájnját a félvezető anyagára.
Míg az ASML ultraviola fényt használ, a Canon-nak nincs szüksége speciális hullámhosszúságú fényforrásra, így csökkenti az energiafelhasználást. A Canon már 2004 óta az NIL (Nanoimprint Lithography) technológiát választja. Ezt a technológiát azonban nem fogadták el széles körben, mivel nem volt olyan hatékony, mint az EUV. Az NIL-nek vannak hiányosságai a beállítás, a teljesítmény és a hatékonyság terén. A szakértők szerint a Canon újításának hatása csak 5 év múlva lesz érezhető. Az NIL-t gyakrabban használták memóriák, mint lapkák gyártására.
Már 2015 óta a SK Hynix és a Toshiba is dolgozott az NIL-en, de konkrét eredmények nélkül. A holland cégnek korlátozásai vannak arra vonatkozóan, hogy kiknek exportálhat EUV litográfiai gépeket, főleg a kínai partnereknek. Valószínű, hogy a Canon is az amerikaiak célkeresztjébe kerül. A geopolitikai játék ismét megállíthatja az innovációt.
